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动态配气技术就是能连续不断的配制和供给一定浓度的标准气体。用动态配气技术配制标准气体时,首先需要一个能连续不断供给原料气的气源,作为这种配气方法的气源有钢瓶标准气和渗透管等。1.钢瓶气动态配气法在消防实际工作中,所用标准气体的浓度有时需要大,有时需要小。钢瓶标准气虽有不同浓度的规格供应,但购置各种浓度的标准气体,不仅代价太高,而且不一定能及时办到。较好的办法是购置一个浓度较高的标准气瓶,需要低浓度标准气体时,用钢瓶标准气作原料气,压缩空气(由低压空气钢瓶或空压机供给)作稀释气,将它们按图4连接,就可从取气口得到所需浓度的标准气体。740)">所配制的标准气体的浓度,可用改变原料气及稀释气的流量比进行调节,并可按下式计算:740)">式中:z:所配标准气体的浓度(ppm);L:钢瓶标准气的浓度(ppm);Qs:钢瓶标准气的流量(Lömin);Qa:压缩空气的流量(Lömin;用此法配气时,在压缩空气的管路中应安装选择性过滤器(净化器),以除去空气中影响配气纯度的杂质。此外配气出口的总流量应略大于用气口的流量,以保证所配气体的浓度与纯度。2.渗透管动态配气法(1)渗透管及渗透率的测定渗透管是动态配气法中的另一种气源,其结构见图5。740)">。四川医用气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。成都二氧化碳标准气体厂家供应

气体分子本身的体积可以忽略不计,温度又不低,导致分子的平均动能较大,分子之间的吸引力相比之下可以忽略不计,实际气体的行为就十分接近理想气体的行为,可当作理想气体来处理。以下内容中讨论的全部为理想气体,但不应忘记,实际气体与之有差别,用理想气体讨论得到的结论只适用于压力不高,温度不低的实际气体。标准气体理想气体方程pv=nRT标准气体遵从理想气体状态方程是理想气体的基本特征。理想气体状态方程有四个变量——气体的压力P、气体的体积V、气体的物质的量N以及温度T和一个常量(气体常为R),只要其中三个变量确定,理想气体就处于一个状态,因而该方程叫做理想气体装态方程。标准气体温度T和物质的量N的单位是固定不变的,分别为K和MOL,而气体的压力P和体积V的单位却有多种取法,这时,状态方程中的常量R的取值(包括单位)也就跟着改变,在进行运算时,千万要注意正确取用R值:P的单位V的单位R的取值(包括单位)标准气体不确定度定义编辑标准气体在研制过程中的质量如何,在分析比对方法中分析误差如何.标准气体在有效期内稳定性如何以及瓶内压力降低后的影响如何.均需要用不确定度来评价。由于不确定度是评价标准气体研制水平的指标。成都二氧化碳标准气体厂家供应福建甲烷标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。

混合罐。标准气体分压法1、适用范围分压法适用于制备常温下是气体,含量在1~60%的标准混合气体2、所需设备配气设备:气瓶汇流排,压力表,阀门,真空泵,管道,气瓶卡具。标准气体扩散法1、适用范围扩散法适用于制备常温下是液体的有机气体2、所需设备配气设备:气瓶,阀门,流量控制阀,流量计,液体组分,分析仪表气瓶,卡具。标准气体容积法1、适用范围静态容积法适用于实验室制备多种小、少量的标准气体,压力接近大气压力。2、所需设备配气设备:气瓶,气瓶减压阀门,定体积管,压力计,真空泵。标准气体饱和法1、适用范围饱和法法适用于易于冷凝的气体和蒸汽。2、所需设备配气设备:气瓶,气瓶减压阀门,冷凝器,饱和器,恒温控制器,压力计,循环风机。标准气体流量法1、适用范围流量比法法是动态配气方法,是严格控制一定比例的组分气体和释稀释气体的流量,经混合而得到的标准气体。2、所需设备气瓶,气瓶减压阀门,单向阀,流量控制器,压力表,管道,机箱。标准气体稀释法1、适用范围稀释法法法是制备低含量标准气体的方法之一。2、所需设备气瓶,气瓶减压阀门,流量控制器,压力表,管道。标准气体体积法1、适用范围体积比法是简单的配气方法。
主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氯化硼和乙硼烷等。通常将掺杂源与运载气体(如氩气和氮气)在源柜中混合,混合后气流连续流入扩散炉内环绕晶片四周,在晶片表面沉积上化合物掺杂剂,进而与硅反应生成掺杂金属而徙动进入硅。7.熏蒸气体(SterilizingGases):具有**作用的气体称熏蒸气体。常用的气体品种有环氧乙烷、磷烷、溴甲烷、溴甲醛、环氧丙烷等。其**原理是利用烷化作用,使微生物**内维持生命不可缺少的物质惰化。**经常使用的是以不同比例配制的环氧乙烷和二氧化碳的混合气,根据用途不同,环氧乙烷的含量可以是10%、20%和30%等。也可采用环氧乙烷和氟利昂12的混合气,环氧乙烷与氟利昂11和氟利昂12的混合气等。**效果与各组分浓度、温度、湿度、时间和压力等因素有关。熏蒸气体可以用于卫生材料、医疗器具、化妆品原料、动物饲料、粮食、纸钞、香辣8.焊接保护气体(WeldingGases):气体保护焊由于具有焊接质量好,效率高,易实现自动化等***而得以迅速发展。焊接保护气体可以是单元气体,也有二元、三元混合气。采用焊接保护气的目的在于提高焊缝质量,减少焊缝加热作用带宽度,避免材质氧化。单元气体有氩气、二氧化碳,二元混合气有氩和氧。二氧化氮标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。

配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2MI配气允差标准,但各公司均有企业标准。组分的**低浓度为10-6级,组分数可多达20余种。配制方法可采用重量法,然后用色谱分析校核,也可按标准传递程序进行传递。3、电子气体(Electronicgases):半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯4_6m+p-_4气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺;高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合,可分为电子级、LSI(大规模集成电路)级、VLSI(超大规模集成电路)级和ULSI(特大规模集成电路)级。4.外延气体(Cpita***algases):在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。5.蚀刻气体(Etchinggases):蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉。福建乙烯标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。重庆标准气体批发商
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进行量值仲裁等。大型乙烯厂、合成氨厂及其它石化企业,在装置开车、停车和正常生产过程中需要几十种纯气和几+百种多组分标准混合气,用来校准、定标生产过程中使用的在线分析仪器和分析原料及产品质量的仪器。标准气还可用于环境监测,**的有机物测量,汽车排放气测试,天然气BTU测量,液化石油气校正标准,超临界流体工艺等。标准气视气体组分数区分为二元、三元和多元标准气体;配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2MI配气允差标准,但各公司均有企业标准。组分的**低浓度为10-6级,组分数可多达20余种配制方法可采用重量法,然后用色谱分析校核,也可按标准传递程序进行传递。3、电子气体(Electronicgases):半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺;高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合,可分为电子级、LSI(大规模集成电路)级、VLSI(超大规模集成电路)级和ULSI(特大规模集成电路)级。4.外延气体(Cpita***algases):在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积。成都二氧化碳标准气体厂家供应
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